多晶硅原料除杂方法

发布时间:2020-06-30 00:00  点击:6079  来源:四川省绿色节能成果转移转化平台

 

单位概况:
    峨嵋半导体材料厂、所创建于1964年6月,是中国第一家从事半导体材料研究、试制、生产、科研与生产一体化的科技型企业,研究所是国家242所重点科研院所之一。经过40多年的发展,峨半厂、所现有资产总额达30多亿元,已形成硅材料(多晶硅、单晶硅、硅片)、高(超)纯金属材料、化合物半导体材料及高纯气体、高纯试剂等4大产品系列,产品品种及规格达650多个,目前主要产品年生产能力已达到多晶硅2200吨、单晶硅800吨、硅片4000万片、高纯金属65吨。是我国最大的多晶硅和高纯金属生产基地之一,是中国半导体材料行业的领跑者,世界半导体材料行业的重要组成部分。

 

技术需求:
1、SiHCl3中B、P、C杂质形态
2、SiHCl3中P杂质分析方法
3、低沸物(主要是SiH2Cl2)回收利用技术
 

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